Produktionseinführung
Plattenkalziniertes Aluminiumoxid-Polierpulver wird aus hochwertigem industriellem Aluminiumoxidpulver als Rohstoff hergestellt und in einem speziellen Produktionsverfahren verarbeitet. Die Kristallform des hergestellten Aluminiumoxid-Polierpulvers ist sechseckig, flach und tafelförmig, daher wird es als plättchenförmiges Aluminiumoxid oder tafelförmiges Aluminiumoxid bezeichnet.
Die Reinheit der Plattenaluminiumoxid-Schleifpartikel beträgt über 99 % und zeichnet sich durch Hitzebeständigkeit, Säure- und Laugenkorrosionsbeständigkeit sowie hohe Härte aus. Im Gegensatz zu herkömmlichen kugelförmigen Schleifpartikeln ist die Unterseite der Plattenaluminiumoxid-Schleifpartikel flach, sodass sich die Partikel beim Schleifen an die Werkstückoberfläche anschmiegen. Dadurch entsteht ein Gleitschleifeffekt, der verhindert, dass die scharfen Ecken der Partikel die Werkstückoberfläche zerkratzen. Beim Schleifen hingegen verteilt sich der Schleifdruck bei Plattenaluminiumoxid gleichmäßig auf der Partikeloberfläche, wodurch die Partikel weniger leicht brechen und die Verschleißfestigkeit verbessert wird. Dies verbessert die Schleifleistung und die Oberflächengüte.
Bei Halbleitermaterialien wie Halbleiter-Siliziumwafern kann die Verwendung von Aluminiumoxidplatten die Schleifzeit verkürzen, die Schleifleistung deutlich verbessern, den Verlust der Schleifmaschine verringern, Arbeits- und Schleifkosten einsparen und die Schleifdurchlaufrate erhöhen. Die Qualität kommt bekannten ausländischen Marken nahe.
Die Arbeitseffizienz beim Glaskolbenschleifen der Bildröhre wird um das 3- bis 5-fache erhöht;
Die qualifizierte Produktrate wird um 10–15 % erhöht und die qualifizierte Produktrate von Halbleiterscheiben erreicht mehr als 99 %;
Der Schleifverbrauch ist 40–40 % geringer als bei gewöhnlichem Polierpulver aus Aluminiumoxid.
Chemische Zusammensetzung
| Chemisch | Garantiewert | Typischer Wert |
| Al2O3 | ≥99,0 % | 99,36 % |
| SiO2 | ＜0,2 % | 0,017 % |
| Fe2O3 | ＜0,1 % | 0,03 % |
| Na2O | ＜0,6 % | 0,35 % |
Physikalische Eigenschaften
| Material | α-Al2O3 |
| Farbe | Weiß |
| Spezifisches Gewicht | ≥3,9 g/cm³ |
| Mohshärte | 9,0 |
Verfügbare Größen
| Typ | D3(um) | D50 (eins) | D94（um） |
| HXTA45 | 50,5-56,2 | 33-38,5 | 20,7-24,5 |
| HXTA40 | 39-44,6 | 27,7-31,7 | 18-20 |
| HXTA35 | 35,4-39,8 | 23,8-27,2 | 15-17 |
| HXTA30 | 28,1-32,3 | 19,2-22,3 | 13,4-15,6 |
| HXTA25 | 24,4-28,2 | 16,1-18,7 | 9,6-11,2 |
| HXTA20 | 20.9-24.1 | 13.1-15.3 | 8,2-9,8 |
| HXTA15 | 14,8-17,2 | 9.4-11 | 5,8-6,8 |
| HXTA12 | 11,8-13,8 | 7,6-8,8 | 4,5-5,3 |
| HXTA09 | 8,9-10,5 | 5,9-6,9 | 3,3-3,9 |
| HXTA05 | 6,6-7,8 | 4.3-5.1 | 2,55-3,05 |
| HXTA03 | 4,8-5,6 | 2,8-3,4 | 1,5-2,1 |
Produktanwendung s
1) Elektronikindustrie: Schleifen und Polieren von Halbleiter-Monokristall-Silizium-Wafern, Quarzkristallen, Verbindungshalbleitern (kristallines Gallium, Nanophosphatierung).
2) Glasindustrie: Schleifen und Verarbeiten von Kristall, Quarzglas, Kineskop-Glasschirmen, optischem Glas, Glassubstraten für Flüssigkristallanzeigen (LCD) und Quarzkristall.
3) Beschichtungsindustrie: Spezialbeschichtungen und Füllstoffe für das Plasmaspritzen.
4) Metall- und Keramikverarbeitungsindustrie: Präzisionskeramikmaterialien, gesinterte Keramikrohstoffe, hochwertige Hochtemperaturbeschichtungen usw.
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