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Hochreiner 98,5 % Sic Schwarzer Siliziumkarbidsand f24

Hochreiner 98,5 % SiC Schwarzer Siliziumkarbidsand f24
Schwarzer SiC wird in elektrischen Innenwiderstandsöfen aus hochreinem Quarzsand und Petrolkoks hergestellt. Seine Kombination aus hoher Härte und Schärfe macht ihn zu einem sehr aggressiven Schleifmittel.
Hauptanwendungen –
gebundene Schleifmittel und beschichtete Schleifmittel
– Strahlen, Oberflächenbehandlung, Rostentfernung
– Nass- und Trockenstrahlmittel, Schleifen und Polieren usw.
– Boden-/Wandlaminate, verschleißfest
– Keramikprodukte: Keramik und Fliesen, Keramikfilterplatten, Keramikmembranen usw. –
Teflonlackierung usw.
– wärmeisolierendes Material  
– Schleifscheiben, Topfscheiben, Schleifsteine, Polierpads usw. –
verwendet für Tiegel, Teile für Brennöfen, Gleitringdichtungen und Teilematerialien zur Herstellung von Halbleitern

$920.00 /MT

Hochreiner 98,5 % Sic Schwarzer Siliziumkarbidsand f24

Schwarzes SiC wird in elektrischen Innenwiderstandsöfen aus hochreinem Quarzsand und Petrolkoks hergestellt. Aufgrund seiner hohen Härte und Schärfe ist es ein äußerst aggressives Schleifmittel.

PHYSIKALISCHE EIGENSCHAFTEN

Spezifisches Gewicht 3,95 g/cm3
Mohshärte 9.15
Maximale Gebrauchstemperatur  1900℃
Schmelzpunkt   2250℃

1. Wird für Schleifmittel, Strahlen, Schleifen, Keramik, Rostentfernung, Oberflächenbehandlung, Bodenbeschichtung, abriebfeste Schicht usw. verwendet.

TYPISCHE CHEMISCHE ANALYSE [%]

SiC Fe2O3 FC F.Si SiO 2 GESETZ
≥99,0 ≤0,10 ≤0,20 ≤0,20 ≤0,50 < 0,05

PARTIKELGRÖSSENVERTEILUNG

F8 +4000um 0 +2800um ≤20 % +2360um ≥45 % +2360+2000um ≥70 % -1700 um ≤ 3 %
F10 +3350um 0 +2360um ≤20 % +2000um ≥45 % +2000+1700um ≥70 % -1400um ≤ 3 %
F12 +2800um 0 +2000um ≤20 % +1700um ≥45 % +1700+1400um ≥70 % -1180 um ≤ 3 %
F14 +2360um 0 +1700um ≤20 % +1400um ≥45 % +1400+1180um ≥70 % -1000 um ≤ 3 %
F16 +2000um 0 +1400um ≤20 % +1180um ≥45 % +1180+1000um ≥70 % -850 um ≤ 3 %
F20 +1700um 0 +1180um ≤20 % +1000um ≥45 % +1000+850um ≥70 % -710 um ≤ 3 %
F22 +1400um 0 +1000um ≤20 % +850um ≥45 % +850+710um ≥70 % -600 um ≤ 3 %
F24 +1180um 0 +850um ≤25 % +710um ≥45 % +710+600um ≥65 % -500 um ≤ 3 %
F30 +1000um 0 +710um ≤25 % +600um ≥45 % +600+500um ≥65 % -425 um ≤ 3 %
F36 +850um 0 +600um ≤25 % +500um ≥45 % +500+425um ≥65 % -355 um ≤ 3 %
F46 +600um 0 +425um ≤30 % +355um ≥40 % 355+300um ≥65 % -250 um ≤ 3 %
F54 +500um 0 +355um ≤30 % +300um ≥40 % +300+250um ≥65 % -212 um ≤ 3 %
F60 +425um 0 +300um ≤30 % +250um ≥40 % 250+212um ≥65 % -180 um ≤ 3 %
F70 +355um 0 +250um ≤25 % +212um ≥40 % +212+180um ≥65 % -150 um ≤ 3 %
  F80 +300um 0 +212um ≤25 % +180um ≥40 % +180+150um ≥65 % -125 um ≤ 3 %
F90 +250um 0 +180um ≤20 % +150um ≥40 % +150+125um ≥65 % -106 nm ≤ 3 %
F100 +212um 0 +150um ≤20 % +125um ≥40 % +125+106um ≥65 % -75 um ≤ 3 %
F120 +180um 0 +125um ≤20 % ≥40 % ≥40 % +106+90um ≥65 % -63um ≤ 3 %
F150 +150um 0 +106 ≤15 % +75um ≥40 % +75+63um ≥65 % -45 um ≤ 3 %
F180 +125um 0 +90um ≤15 % +75um * +75+63um ≥40 % -53um *
F220 +106 0 +75um ≤15 % +63um * +63+53um ≥40 % -45 um *

2. Wird zum Schleifen, Polieren, Läppen, Schleifstein, Polierpads, Keramikmembran usw. verwendet.

TYPISCHE CHEMISCHE ANALYSE [%]

SiC Fe2O3 FC F.Si SiO 2 GESETZ
98,0-99,5 ≤0,15  ≤0,30 ≤0,40 ≤0,70 < 0,09

TEILCHENGRÖSSENVERTEILUNG

KAPITEL 1 (JIS-STANDARD)

Größe D O (eins) D 3 (ähm) D 50 (eins) D94(um)
#240 ≤127 ≤103 57,0 ± 3,0 ≥40
#280 ≤112 ≤87 48,0 ± 3,0 ≥33
#320 ≤98 ≤74 40,0 ± 2,5 ≥27
#360 ≤86 ≤66 35,0 ± 2,0 ≥23
#400 ≤75 ≤58 30,0 ± 2,0 ≥20
#500 ≤63 ≤50 25,0 ± 2,0 ≥16
#600 ≤53 ≤41 20,0 ± 1,5 ≥13
#700 ≤45 ≤37 17,0 ± 1,5 ≥11
#800 ≤38 ≤31 14,0 ± 1,0 ≥9,0
#1000 ≤32 ≤27 11,5 ± 1,0 ≥7,0
#1200 ≤27 ≤23 9,5 ± 0,8 ≥5,5
#1500 ≤23 ≤20 8,0 ± 0,6 ≥4,5
#2000 ≤19 ≤17 6,7 ± 0,6 ≥4,0
#2500 ≤16 ≤14 5,5 ± 0,5 ≥3,0
#3000 ≤13 ≤11 4,0 ± 0,5 ≥2,0
#4000 ≤11 ≤8,0 3,0 ± 0,4 ≥1,8
#6000 ≤8,0 ≤5,0 2,0 ± 0,4 ≥0,8
#8000 ≤6,0 ≤3,5 1,2 ± 0,3 ≥0,6

KAPITEL Ⅱ (FEPA-STANDARD)

Größe D 3 (ähm) D 50 (eins)  D94(um)
F230 <82 53,0 ± 3,0 >34
F240 <70 44,5 ± 2,0 >28
F280 <59 36,5 ± 1,5 >22
F320 <49 29,2 ± 1,5 >16,5
F360 <40 22,8 ± 1,5 >12
F400 <32 17,3 ± 1,0 >8
F500 <25 12,8 ± 1,0 >5
F600 <19 9,3 ± 1,0 >3
F800 <14 6,5 ± 1,0 >2
F1000 <10 4,5 ± 0,8 >1
F1200 <7 3,0 ± 0,5 >1 (bei 80 %)
F1500 <5 2,0 ± 0,4 >0,8 (bei 80 %)
F2000 <3,5 1,2 ± 0,3 >0,5 (bei 80 %)

Hauptsächliche Anwendungen 

-Gebundene Schleifmittel und beschichtete Schleifmittel

-Strahlen, Oberflächenbehandlung, Rostentfernung

– Nass- und Trockenstrahlmittel, Schleifen und Polieren usw.

-Boden-/Wandlaminate, verschleißfest

-Keramikprodukte: Keramik und Fliesen, Keramikfilterplatte, Keramikmembran usw.

-Teflonlackierung etc.

– Wärmeisolierendes Material

-Schleifscheiben, Topfscheiben, Schleifsteine, Polierpads usw.

-Wird für Tiegel, Teile für Brennöfen, Gleitringdichtungen und Teilematerialien zur Herstellung von Halbleitern verwendet

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