Schwarzes Siliciumcarbid 60# 80# 120# für Glasstrahlen
Schwarzes Siliciumcarbid (SiC) in den Körnungen 60#, 80# und 120# ist ein professionelles Schleifmittel, das speziell für Glasstrahlanwendungen entwickelt wurde und sich ideal für die Oberflächenbehandlung verschiedener Glasprodukte eignet.
Dank hoher Härte, scharfer Partikel und hervorragender Selbstschärfung bietet dieses schwarze Siliziumkarbid effiziente Strahlleistung. Körnung 60 eignet sich für das Grobstrahlen von Glas, zum Entfernen hartnäckiger Verschmutzungen und zum Formen von Kanten; Körnung 80 für das Mittelstrahlen, um eine gleichmäßige, matte Oberfläche zu erzielen; Körnung 120 für das Feinstrahlen, um ein glattes, feines Finish zu erzeugen, ohne das Glas zu beschädigen.
Es zeichnet sich durch geringen Verunreinigungsgehalt, keine Farbverfälschung des Glases und gute Fließfähigkeit aus und gewährleistet so ein gleichmäßiges Strahlergebnis. Ungiftig und verschleißfest, findet es breite Anwendung in der Glasdekoration, bei Autoglas, Architekturglas und in der Glaswarenverarbeitung. Wir bieten hochwertige Produkte mit stabiler Korngröße und wettbewerbsfähigen Preisen und unterstützen auch Kleinserienbemusterungen.
PHYSIKALISCHE EIGENSCHAFTEN
| Spezifisches Gewicht | 3,95 Gramm/ cm³ |
| Mohs-Härte | 9.15 |
| Maximale Betriebstemperatur | 1900℃ |
| Schmelzpunkt | 2250℃ |
Verwendungsmöglichkeiten: Schleifen, Strahlen, Polieren, Keramik, Rostentfernung, Oberflächenbehandlung, Bodenbeschichtung, abriebfeste Schichten usw.
TYPISCHE CHEMISCHE ANALYSE [%]
| SiC | Fe2O3 | FC | F.Si | SiO 2 | GESETZ |
| ≥98,5 | ≤0,10 | ≤0,20 | ≤0,20 | ≤0,50 | < 0,05 |
PARTIKELGRÖSSENVERTEILUNG
| F8 | +4000 µm | 0 | +2800µm | ≤20% | +2360 µm | ≥45% | +2360+2000um | ≥70% | -1700µm | ≤3% |
| F10 | +3350 µm | 0 | +2360 µm | ≤20% | +2000 µm | ≥45% | +2000+1700µm | ≥70% | -1400um | ≤3% |
| F12 | +2800µm | 0 | +2000 µm | ≤20% | +1700µm | ≥45% | +1700+1400um | ≥70% | -1180µm | ≤3% |
| F14 | +2360 µm | 0 | +1700µm | ≤20% | +1400um | ≥45% | +1400+1180µm | ≥70% | -1000µm | ≤3% |
| F16 | +2000 µm | 0 | +1400um | ≤20% | +1180µm | ≥45% | +1180+1000µm | ≥70% | -850 µm | ≤3% |
| F20 | +1700µm | 0 | +1180µm | ≤20% | +1000 µm | ≥45% | +1000+850µm | ≥70% | -710µm | ≤3% |
| F22 | +1400um | 0 | +1000 µm | ≤20% | +850 µm | ≥45% | +850+710µm | ≥70% | -600 µm | ≤3% |
| F24 | +1180µm | 0 | +850 µm | ≤25% | +710µm | ≥45% | +710+600µm | ≥65% | -500µm | ≤3% |
| F30 | +1000 µm | 0 | +710µm | ≤25% | +600 µm | ≥45% | +600+500µm | ≥65% | -425µm | ≤3% |
| F36 | +850 µm | 0 | +600 µm | ≤25% | +500 µm | ≥45% | +500+425µm | ≥65% | -355µm | ≤3% |
| F46 | +600 µm | 0 | +425µm | ≤30% | +355 µm | ≥40% | 355+300µm | ≥65% | -250 µm | ≤3% |
| F54 | +500 µm | 0 | +355 µm | ≤30% | +300 µm | ≥40% | +300+250µm | ≥65% | -212µm | ≤3% |
| F60 | +425µm | 0 | +300 µm | ≤30% | +250 µm | ≥40% | 250+212µm | ≥65% | -180 µm | ≤3% |
| F70 | +355 µm | 0 | +250 µm | ≤25% | +212 µm | ≥40% | +212+180µm | ≥65% | -150 µm | ≤3% |
| F80 | +300 µm | 0 | +212 µm | ≤25% | +180 µm | ≥40% | +180+150µm | ≥65% | -125µm | ≤3% |
| F90 | +250 µm | 0 | +180 µm | ≤20% | +150 µm | ≥40% | +150+125µm | ≥65% | -106µm | ≤3% |
| F100 | +212 µm | 0 | +150 µm | ≤20% | +125µm | ≥40% | +125+106µm | ≥65% | -75µm | ≤3% |
| F120 | +180 µm | 0 | +125µm | ≤20% | ≥40% | ≥40% | +106+90µm | ≥65% | -63µm | ≤3% |
| F150 | +150 µm | 0 | +106µm | ≤15% | +75 µm | ≥40% | +75+63um | ≥65% | -45µm | ≤3% |
| F180 | +125µm | 0 | +90µm | ≤15% | +75 µm | * | +75+63um | ≥40% | -53µm | * |
| F220 | +106µm | 0 | +75 µm | ≤15% | +63 µm | * | +63+53um | ≥40% | -45µm | * |
Hauptanwendungen
-Gebundene und beschichtete Schleifmittel
-Strahlen, Oberflächenbehandlung, Rostentfernung
-Nass- und Trockenstrahlen, Schleifen und Polieren usw.
-Boden-/Wandlaminate, verschleißfest
-Keramikprodukte: Keramik und Fliesen, Keramikfilterplatten, Keramikmembranen usw.
-Teflonfarbe usw.
– Wärmedämmmaterial
Schleifscheiben, Topfscheiben, Wetzsteine, Polierpads usw.
-Wird verwendet für Tiegel, Teile für Brennöfen, Gleitringdichtungen und Werkstoffe für die Halbleiterherstellung
