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Schwarze Siliziumkarbid-Sandstrahlmittel

Schwarzes Siliciumcarbid-Strahlmittel wird in elektrischen Widerstandsöfen aus hochreinem Quarzsand und Petrolkoks hergestellt. Seine Kombination aus extremer Härte und Schärfe macht es zu einem sehr aggressiven Strahlmittel.

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Schwarze Siliziumkarbid-Sandstrahlmittel

Schwarzes Siliciumcarbid wird in elektrischen Innenwiderstandsöfen aus hochreinem Quarzsand und Petrolkoks hergestellt; seine Kombination aus sehr hart und scharf macht es zu einem sehr aggressiven Schleifmittel.

PHYSIKALISCHE EIGENSCHAFTEN

Spezifisches Gewicht 3,95 Gramm/ cm³
Mohs-Härte   9.15
Maximale Betriebstemperatur  1900℃
Schmelzpunkt 2250℃

Verwendungsmöglichkeiten: Schleifen, Strahlen, Polieren, Keramik, Rostentfernung, Oberflächenbehandlung, Bodenbeschichtung, abriebfeste Schichten usw.

TYPISCHE CHEMISCHE ANALYSE [%]

SiC Fe2O3 FC F.Si SiO 2 GESETZ
≥98,5 ≤0,10 ≤0,20 ≤0,20 ≤0,50 < 0,05

PARTIKELGRÖSSENVERTEILUNG

F8 +4000 µm 0 +2800µm ≤20% +2360 µm ≥45% +2360+2000um ≥70% -1700µm ≤3%
F10 +3350 µm 0 +2360 µm ≤20% +2000 µm ≥45% +2000+1700µm ≥70% -1400um ≤3%
F12 +2800µm 0 +2000 µm ≤20% +1700µm ≥45% +1700+1400um ≥70% -1180µm ≤3%
F14 +2360 µm 0 +1700µm ≤20% +1400um ≥45% +1400+1180µm ≥70% -1000µm ≤3%
F16 +2000 µm 0 +1400um ≤20% +1180µm ≥45% +1180+1000µm ≥70% -850 µm ≤3%
F20 +1700µm 0 +1180µm ≤20% +1000 µm ≥45% +1000+850µm ≥70% -710µm ≤3%
F22 +1400um 0 +1000 µm ≤20% +850 µm ≥45% +850+710µm ≥70% -600 µm ≤3%
F24 +1180µm 0 +850 µm ≤25% +710µm ≥45% +710+600µm ≥65% -500µm ≤3%
F30 +1000 µm 0 +710µm ≤25% +600 µm ≥45% +600+500µm ≥65% -425µm ≤3%
F36 +850 µm 0 +600 µm ≤25% +500 µm ≥45% +500+425µm ≥65% -355µm ≤3%
F46 +600 µm 0 +425µm ≤30% +355 µm ≥40% 355+300µm ≥65% -250 µm ≤3%
F54 +500 µm 0 +355 µm ≤30% +300 µm ≥40% +300+250µm ≥65% -212µm ≤3%
F60 +425µm 0 +300 µm ≤30% +250 µm ≥40% 250+212µm ≥65% -180 µm ≤3%
F70 +355 µm 0 +250 µm ≤25% +212 µm ≥40% +212+180µm ≥65% -150 µm ≤3%
  F80 +300 µm 0 +212 µm ≤25% +180 µm ≥40% +180+150µm ≥65% -125µm ≤3%
F90 +250 µm 0 +180 µm ≤20% +150 µm ≥40% +150+125µm ≥65% -106µm ≤3%
F100 +212 µm 0 +150 µm ≤20% +125µm ≥40% +125+106µm ≥65% -75µm ≤3%
F120 +180 µm 0 +125µm ≤20% ≥40% ≥40% +106+90µm ≥65% -63µm ≤3%
F150 +150 µm 0 +106µm ≤15% +75 µm ≥40% +75+63um ≥65% -45µm ≤3%
F180 +125µm 0 +90µm ≤15% +75 µm * +75+63um ≥40% -53µm *
F220 +106µm 0 +75 µm ≤15% +63 µm * +63+53um ≥40% -45µm *

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